關(guān)鍵詞：雙氧水

行業(yè)：半導體

CT-1Plus電位滴定測定雙氧水的濃度

摘要

雙氧水在半導體行業(yè)中主要用作半導體晶體片的清洗劑、腐蝕劑和光刻膠的去除劑，用于電子工業(yè)制取高級絕緣層、去除電鍍液中無機雜質(zhì)，以及半導體材料制造工序的處理等，它的純度對集成電路的成品率、電性能及可靠性都有著十分重要的影響。本例通過電位滴定法測定一種雙氧水的濃度。

儀器配置

●CT-1Plus電位滴定儀

●ORP-101C電極

●20mL高精度計量管

●100mL滴定杯

試劑配置

●滴定劑：高某錳某酸某鉀標準溶液（1/5KMnO4）

●滴定度：0.1mol/L

●溶劑：純水/1mol/L硫酸溶液

●其它試劑：硫酸錳

測定方法

●氧化還原滴定/電位滴定

●適量樣品于干燥燒杯中，加入50mL 1mol/L硫酸溶液，0.5克硫酸錳，攪拌溶解

●將燒杯置于滴定臺上，選擇雙氧水含量滴定方法，用高某錳某酸某鉀標準溶液滴定到終點

儀器參數(shù)

● 最小滴定體積：20μL  

● 最大滴定體積：100μL

● 攪拌速度：200        

● 每滴間隔：1000ms

● 終點模式：微分閾值判定   

● 微分設(shè)置：200

測試數(shù)據(jù)

● 環(huán)境溫度：23℃ ● 環(huán)境濕度：50%  

● 測試時間：3min 

測試結(jié)果：經(jīng)測試，雙氧水的濃度約為27.54%。